真空镀膜加工磁控溅射技术有很多种。每个都有不同的工作原理和应用对象。但有一个共同点：磁场和电子之间的相互作用使电子在靠近目标表面的掩埋螺旋中运行，从而增加电子撞击产生离子的概率。产生的离子在电场的作用下与靶表面发生碰撞，并从靶表面飞溅出去。

在近几十年的发展中，永磁体逐渐被使用，而线圈磁体很少被使用。

目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。

真空镀膜加工即真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久，耐磨度好，但是由于其对环境要求较严格而且工艺相对比较复杂成本方面比一般电镀要高。而水电镀：水电镀一般是指挂镀。真空镀膜加工可在---环境中坚持25年；防止结露：大幅抑制光伏玻璃发生结露；

pvd真空泵涂层广泛运用于机械设备、电子器件、五金、航天航空、化工厂等制造行业，随后在膜前后左右开展pvd真空泵涂层1.产品经过镀膜后，会在产品表面形成一种保护膜，可以有效抵抗腐蚀，耐磨，提升产品。真空镀层能够更改商品的外型，依据不一样商品顾客群电镀工艺不一样颜色的外型，考虑顾客的要求，如金属材料真空泵镀层18k金。

相对性于传统式镀膜方法，真空镀膜运用归属于一种干试镀膜，它的关键方式包含下列几类：真空蒸镀其基本原理是在真空标准下，用空调蒸发器电加热带挥发化学物质，使其汽化或提升，挥发离子流立即射向基片，并在基片上沉积进行析出固体塑料薄膜的技术性。磁控溅射镀膜磁控溅射镀膜是真空标准下，在负极接好2000v直流电，激起电弧放电，带正电荷的正离子碰撞负极，使其射出去分子，磁控溅射出的分子根据可塑性氛围沉积到基片上产生膜层。