真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

真空镀膜设备在工业生产中应用广泛，无论是大小产品、金属产品或塑料产品，还是陶瓷、芯片、线路板、玻璃等产品，基本上都需要进行表面处理镀膜。在涂料就方式而言，比较常见的是采用蒸发镀或磁控豺镀或离子镀。

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相对性于传统式镀膜方法，真空镀膜运用归属于一种干试镀膜，它的关键方式包含下列几类：真空蒸镀其基本原理是在真空标准下，用空调蒸发器电加热带挥发化学物质，使其汽化或提升，挥发离子流立即射向基片，并在基片上沉积进行析出固体塑料薄膜的技术性。磁控溅射镀膜磁控溅射镀膜是真空标准下，在负极接好2000v直流电，激起电弧放电，带正电荷的正离子碰撞负极，使其射出去分子，磁控溅射出的分子根据可塑性氛围沉积到基片上产生膜层。

       真空镀膜技术的特点：

      1、镀覆材料广泛：可作为真空镀蒸发材料有几十种，包括金属、合金和非金属。真空镀膜加工还可以像多层电镀一样，加工出多层结构的复合膜，满足对涂层各种不同性能的需求。

      2、真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆：如铝、钛、锆等镀层,甚至陶瓷和金刚石涂层，这是十分难能可贵的。

      3、真空镀膜---良：真空镀膜厚度远小于电镀层。但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能---。孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。

      4、环境效益优异：真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净，无污水排放，不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下，真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。