东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司，是将派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性：防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。

真空镀膜机过程的清洁度是影响真空镀膜附着力的主要指标之一。因此，为了避免真空污染，设备零件的表面清洗处理是非常重要的。真空镀膜机设备表面处理有四种基本方法         

溶剂脱脂

附着在真空设备零件上的油可分为动植物油和矿物油。动植物油可用碱溶液化学法除去，矿物油可用除去。

然而，在实际的清洗设备中，通常使用两种溶剂。                                                                       

真空镀膜机是在真空腔内进行镀膜，用于测量薄膜厚度，是需要的测量仪器来测量厚度尺寸的

真空镀膜机有很多种。一些制造公司按应用领域分类，一些按涂层技术分类。然而，如果按应用领域分类，则加以区分，因为真空镀膜机的应用领域非常广泛。如果按字段划分，则，更易于区分。因此，在购买真空镀膜机时，必须告知制造商需要电镀的工件、需要电镀的膜层和特殊要求，以便制造商与应用领域相对应的真空镀膜机。

真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多品种，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分成蒸腾和溅射两种。需求镀膜的被称为基片，镀的资料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

　薄膜均匀性概念

　厚度上的均匀性，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也便是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也便是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。 但是如果是指原子层标准上的均匀度，也便是说要实现10A甚至1A的外表平整，详细操控因素下面会依据不同镀膜给出详细解释。

影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

磁场不均匀的影响

由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。