纳米镀膜设备-塑料纳米镀膜设备-拉奇纳米(商家)

纳米镀膜设备pcvd技术具有沉积温度低，沉积速率快，绕镀性好，纳米镀膜设备，薄膜与基体结合强度好，设备---维护简单等优点，用pcvd法调节工艺参数方便灵活，轻易调整和控制薄膜厚度和成份组成结构，沉积出多层复合膜及多层梯度复合膜等膜，同时，pcvd法还拓展了新的低温沉积领域，例如，电子纳米镀膜设备，用pcvd法可将tin的反应温度由cvd法的1000℃降到200～500℃，用pcvd法制备纳米陶瓷薄膜的特点是：产品的杨氏模量、抗压强度和硬度都---，耐磨性好，化学性能稳定，性和腐蚀性好，有较高的高温强度。

等离子体化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体（非平衡等离子体）作能量源，工件置于低气压下辉光放电的阴极上，金属配件纳米镀膜设备，利用辉光放电（或另加---体）使工件升温到预定的温度，然后通进适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学气相沉积的一般技术，又有辉光放电的强化作用。