真空镀膜设备-东莞拉奇纳米镀膜-真空镀膜设备

离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。　　

全sus304不锈钢机身，隐藏式双层冷却水套设计　　

合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性　　

采用多路进气系统，硅胶真空镀膜设备，---控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。　　

装载大功率脉冲偏压电源，---提高电粒子能量，从而获得的膜层结合力和光洁度　　

采用---工艺制造，精益---，真空镀膜设备，通过欧盟ce和iso管理体系；

pcvd工艺参数包括微观参数和宏观参数。微观参数如电子能量、等离子体密度及分布函数、反应气体的离解度等。宏观参数对于真空系统有，气体种类、配比、流量、压强、抽速等；对于基体来说有，沉积温度、相对位置、导电状态等；对于等离子体有，放电种类、频率、电极结构、输进功率、电流密度、离子温度等。以上这些参数都是相互联系、相互影响的。