常压化学气相沉积（npcvd）或---压下化学气相沉积（apcvd）是在0.01—0.1mpa压力下进行，低压化学气相沉积（lpcvd）则在10-4 mpa下进行。cvd或辉光放电cvd，是低压cvd的一种形式，其优点是可以在较低的基材温度下获得所希望的膜层性能。
cvd的进一步发展是化学气相浸渍（cvi） ，或称化学气相注入，在这种工艺中由多孔材料制成的物件被注入某种元素以强化基材性能。
等离子辅助cvd（pacvd），也称为等离子活化cvd，手机纳米镀膜设备，等离子援助cvd，等离子增强cvd。
溅射（或阴极喷涂）和蒸发是用于薄膜沉积的常用的pvd方法。
在pvd技术中，释放或碰撞的热物理过程将要沉积的材料（目标）转化为原子粒子，然后在真空环境中在气态等离子体条件下将原子粒子定向到基材，通过冷凝或化学反应生成物理涂层。投射原子的积累。该技术的结果是，要沉积的材料类型具有更高的灵活性，纳米镀膜设备，并且可以---地控制沉积膜的成分。连接到高压电源和真空室的两个电极构成了pvd反应器。
pvd技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了---制造业的高度重视，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。
与cvd工艺相比，汽车配件纳米镀膜设备，pvd工艺处理温度低，纳米镀膜设备，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；pvd工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。
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