东莞拉奇纳米镀膜-镀膜设备生产-镀膜设备

人们把等离子体、离子束引入到传统的物理气相沉积技术的蒸发和溅射中，参与其镀膜过程，同时通入反应气体，也可以在固体表面进行化学反应，生成新的合成产物固体相薄膜，工具镀膜设备，称其为反应镀。

在溅射钛(ti)等离子体中通入反应气体n2后合成tin就是一例。

这就是说物理气相沉积也可以包含有化学反应。又如，手机纳米镀膜设备，在反应室内通入，借助于w靶阴极电弧放电，在ar，w等离子体作用下使分解，并在固体表面实现碳键重组，生成掺w的类金刚石碳减摩膜，人们习惯上把这种沉积过程仍归入化学气相沉积，但这是在典型的物理气相沉积技术——金属阴极电弧离子镀中实现的。

pcvd的工艺装置由沉积室、反应物输送系统、放电电源、真空系统及检测系统组成。气源需用气体净化器除往水分和其它杂质，经调节装置得到所需要的流量，再与源物质同时被送进沉积室，在一定温度和等离子体等条件下，得到所需的产物，并沉积在工件或基片表面。所以，pcvd工艺既包括等离子体物理过程，又包括等离子体化学反应过程。