离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。
全sus304不锈钢机身，隐藏式双层冷却水套设计
合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性
采用多路进气系统，刀具镀膜设备，---控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。
装载大功率脉冲偏压电源，---提高电粒子能量，真空镀膜设备，从而获得的膜层结合力和光洁度
采用---工艺制造，精益---，台湾镀膜设备，通过欧盟ce和iso管理体系；
气相沉积是一种在基体表面形成功能膜层的技术，它是利用物质在气相中产生的物理或(及)化学反应而在产品表面沉积单层或多层的、单质或化合物的膜层，从而使产品表面获得所需的各种优---能。
气相沉积作为一种表面镀膜方法，其基本步骤有需镀物料气相化->;输运->;沉积。它的主要特点在于不管原来需镀物料是固体、液体或气体，在输运时都要转化成气相形态进行迁移，真空光学镀膜设备，终到达工件表面沉积凝聚成固相薄膜。
一个真正的单层，即大面积石墨烯薄膜覆盖在大面积铜箔上。改进了化学气相沉积(cvd)生长方法，消除了石墨烯生长在铜箔上的所有碳杂质。这种均匀“”的单层单晶石墨烯有望被用作分辨率透射电镜成像和光学设备的超薄支撑材料。也可作为一种合适的石墨烯，以实现非常均匀的功能化，这将促使推动许多其他应用，---是用于各种类型的传感器。
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