镀膜机工艺在装饰品方面的运用跟着经济的开展和生活水平的进步，大家喜爱将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室表里装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五光十色。
镀膜技能在飞机防护涂层方面的运用飞机的钛合金紧固件，原来选用电镀办法镀镉。但在镀镉中含有氢，所以在飞翔进程中，遭到---、海水的腐蚀，镀层上简单发生镉脆，甚至导致---。1964年，五金配件纳米镀膜设备，选用离子镀办法在钛合金紧固件上镀铝，五金纳米镀膜设备，处理了飞机零件的镉脆疑问。在离子镀技能中，因为给工件施加负偏压，能够构成伪分散层、细化膜层安排，因而能够---进步膜层的耐腐蚀功能。
溅射镀膜
溅射镀膜，是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时，将工作室---真空，充入氢气作为工作气体，并保持其压力为0.13-1.33pa，以沉积物质作为靶（阴极）并加上数百至数千伏的负压，以工件为阳极，两侧灯丝带负压（-30-100v）。加热灯丝至1700℃左右时，灯丝发射出的电子使氢气发生辉光放电，产生出氢离子h+，h+被加速轰击靶材，使靶材迸发出原子或分子溅射到工件表面上，纳米镀膜设备，形成沉积层。
溅射法可用于沉积各种导电材料，包括高熔点金属及化合物。如果用tic作靶材，便可以在工件上直接沉积tic涂层。当然，也可以用金属ti作靶，再导入反应气体，进行反应性溅射，溅射涂层均匀但沉积速度慢，不适于沉积105mm以上厚度的涂层。溅射可使基体温度升高到500-600℃，因此，金属配件纳米镀膜设备，只适用于在此温度下具有二次硬化的钢制模具加工。
（1）化学气相沉积（cvd）反应温度一般在900~1200℃，中温cvd例如mocvd（金属有机化合物化学气相沉积），反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量，还可把反应温度降低。
（2）常压化学气相沉积（npcvd）或---压下化学气相沉积（apcvd）是在0.01—0.1mpa压力下进行，低压化学气相沉积（lpcvd）则在10-4 mpa下进行。cvd或辉光放电cvd，是低压cvd的一种形式，其优点是可以在较低的基材温度下获得所希望的膜层性能。
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