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在真空度较高的环境下，通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料以原子、分子或离子的形式逸出沉积物粒子，并且逸出的粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。.pvd大家族里主要有三位成员：真空蒸发沉积技术（蒸镀）；溅射沉积技术；离化pvd技术。

蒸镀是在真空环境下，以各种加热方式赋予待蒸发源材料以热量，使源材料物质获得所需的蒸汽压而实现蒸发，所发射的气相蒸发物质在具有适当温度的基片上不断沉积而形成薄膜的沉积技术。

微波等离子体化学气相沉积（mw-pcvd）

微波等离子体的特点是能量大，新北真空镀膜设备，活性强。激发的亚稳态原子多，化学反应轻易进行，是一种很有发展前途、用途广泛的新工艺，汽车真空镀膜设备，微波频率为2.45ghz，金属配件真空镀膜设备，

微波放电与直流辉光放电相比具有设备结构简单，轻易起辉，耦合，工作稳定，无气体污染及电极腐蚀，工作频带宽等优点，装置主要由微波发生器、环形器、定向耦合器、表面波导放电部分及沉积室组成。