饰品真空镀膜设备-真空镀膜设备-拉奇纳米镀膜设备

多弧离子pvd镀膜设备　　

腔体结构：  立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统　　

材质用料：  腔体采用sus304不锈钢材质　　

离子弧源：  依据设备大小不同配备多套弧电源系统　　

偏压电源：  配备大功率单级脉冲偏压电源　　

多弧靶材：  标配多套钛靶或不锈钢靶材　　

转动系统： 变频调速，公自转结合，饰品真空镀膜设备，可采用上传动或下传动方式　　

真空系统（装饰镀膜设备decorative coating）：扩散泵（可选分子泵）+罗茨泵+机械泵+维持泵+深冷系统（可选）

在过去的几十年中，考虑到计算机数控（cnc）加工工艺的---发展，电子真空镀膜设备，pvd沉积技术的发展基本上集中在工具的涂层上，因为已经出现了新的加工方法。

pvd技术是一种薄膜沉积工艺，其中涂层在原子上逐个原子生长。pvd需要从通常称为目标的固体源中雾化或汽化材料。薄膜通常具有与几个微米的薄膜一样薄的厚度，该厚度与某些原子层一样薄。该过程导致表面和基板与沉积材料之间的过渡区的特性改变。另一方面，膜的性质也可受基材的性质影响。