饰品纳米镀膜设备-纳米镀膜设备-东莞拉奇纳米

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    2020-10-15

唐锦仪
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直流等离子体化学气相沉积(dc-pcvd)

dc-pcvd是利用高压直流负偏压(-1~-5kv),使低压反应气体发生辉光放电产生等离子体,等离子体在电场作用下轰击工件,并在工件表面沉积成膜。

直流等离子体比较简单,工件处于阴极电位,金属配件纳米镀膜设备,受其外形、大小的影响,使电场分布不均匀,在阴极四周压降,电场强度,正由于有这一特点,所以化学反应也集中在阴极工件表面,加强了沉积效率,避免了反应物质在器壁上的消耗。缺点是不导电的基体或薄膜不能应用。由于阴极上电荷的积累会排斥进一步的沉积,并会造成积累放电,破坏正常的反应。






溅射镀膜

溅射镀膜,是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时,将工作室---真空,充入氢气作为工作气体,并保持其压力为0.13-1.33pa,以沉积物质作为靶(阴极)并加上数百至数千伏的负压,汽车配件纳米镀膜设备,以工件为阳极,两侧灯丝带负压(-30-100v)。加热灯丝至1700℃左右时,纳米镀膜设备,灯丝发射出的电子使氢气发生辉光放电,产生出氢离子h+,h+被加速轰击靶材,使靶材迸发出原子或分子溅射到工件表面上,形成沉积层。




溅射法可用于沉积各种导电材料,包括高熔点金属及化合物。如果用tic作靶材,便可以在工件上直接沉积tic涂层。当然,也可以用金属ti作靶,再导入反应气体,进行反应性溅射,溅射涂层均匀但沉积速度慢,饰品纳米镀膜设备,不适于沉积105mm以上厚度的涂层。溅射可使基体温度升高到500-600℃,因此,只适用于在此温度下具有二次硬化的钢制模具加工。


化学气相沉积工艺是这样一种沉积工艺,被沉积物体和沉积元素(单元或多元)蒸发化合物置于反应室,当高温气流进入反应室时,可控制的反应室可使其发生一种合适的化学反应,导致被沉积物体的表面形成一种膜层,同时将反应产物及多余物从反应室蒸发排除。

镀膜机工艺在防伪技能中的运用防伪膜品种许多,从运用办法可分为反射式和透射式;从膜系附着办法能够分为直接镀膜式、直接镀膜式或直接镀膜剪贴式。





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