化学气相沉积镀膜-化学气相沉积-拉奇纳米镀膜设备

四种常见的真空镀膜材料

1.氧化物:一氧化硅sio，二氧化硅sio2，二氧化钛tio2，二氧化锆zro2，二氧化铪hfo2，一氧化钛tio，五氧化三钛ti3o5，五氧化二铌nb2o5，五氧化二钽ta2o5，氧化钇y2o3，氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。

2.---物：---钕nbf3，baf2，---cef3，---镁mgf2，laf3，---钇yf3，---镱ybf3，---铒erf3等高纯---物。

3.其它化合物：---锌zns，---znse，氮化钛tin，碳化硅sic，钛酸---latio3，钛酸钡batio3，钛酸---srtio3，化学气相沉积，钛酸镨prtio3，cds等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝al，高纯铜cu，高纯钛ti，高纯硅si，高纯金au，高纯银ag，高纯铟in，高纯镁mg，高纯锌zn，高纯铂pt，高纯锗ge，高纯镍ni，高纯金au，金锗合金auge，金镍合金auni，镍铬合金nicr，钛铝合金tial，铜铟合金cuinga，铜铟硒合金cuingase，锌铝合金znal，铝硅合金alsi等金属镀膜材料。