真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，的边缘复盖和---的附着力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是---t微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，等离子化学气相沉积，才能生产出均匀牢固的镀膜层。
一、镀膜作业步骤:1.镀膜前洗净。2.抽检镜片外观确认(裂边，伤痕，不洁)情况，全检镜片锁板情况(镜片倾斜）。3.确认好准备镀膜的镜片(数量，化学气相沉积，机种，面别)并做好相应记录。4.上伞，将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周，勿碰到镜片。5.区分需要镀膜镜片种类面别。6.清洁坩埚电子枪周围用铜刷刷，吸，并添加药材。7.确认晶振片，监控片是否ok在新的位置。8.确认机台内无杂物，后关门排气加热。9.镀膜选取相应的制程。10.人员镀膜过程中进行监控。11.下伞，将镀膜后的镜片从伞架取下，放入包装盒。12.抽检，主要为膜点，雾状，颜色异常，超声波化学气相沉积，不洁。13.光谱测量采用奥林巴斯反射测定仪和u4---光光度计。14.伞架每圈抽1pcs共5圈。15.膜强度测试(采用3m胶带粘拉膜3次)。16.光谱量测ok后可送出。
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