




真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或化学方法,使物体表面获得所需的涂层,目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域。真空镀膜技术也是pvd涂层的常用制备方法,纳米镀膜多少钱,如真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法(pvd),是基本的涂层制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以真空技术是涂层制作技术的基础,获得并保持所需的真空环境,纳米镀膜,是镀膜的---条件。
高频感应蒸发源蒸镀法:
高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈中央,使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生---的涡流损失和磁滞损失(对铁磁体),使蒸发材料升温,直至气化蒸发。
优点:
1、蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右。
2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。
3、蒸发材料是金属时,蒸发材料可产生热量。
4、蒸发源一次装料,真空纳米镀膜,无需送料机构,纳米镀膜加工,温度容易控制,操作简单。
pvd(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于pvd技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年真空离子镀技术的发展是快的,它已经成为了当代进的表面处理方法之一。我们通常所说的pvd镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的pvd镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。
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