




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
气体不均匀性的影响
一般来说气体不均匀可以由两种情况产生,一种是送气不均匀,另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气,可认为是均匀抽气;而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气,属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气,纳米镀膜设备,真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时,气压从前到后逐渐减小,而后分子泵关只开前分子泵时,气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。
真空镀膜设备结构:
真空电镀加工由机械泵、分散化泵、增压水泵、拓展泵、rots泵、粉碎机轮分子泵等构成。依据电阻器蒸发法、磁控源对总体目标原材料和限度多弧开关电源等电镀工艺方式的挑选技术标准,茶山镀膜设备,真空泵测量可挑选大数字智能化负压表以及品---的测量规范,手机镀膜设备,及其全自动工作压力---仪等检测仪器。膜厚测量可选用方块电阻测量仪,透过率计等。
真空镀膜机具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点,配备 e 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。pid自动控温,镀膜设备厂,具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。e 型电子束蒸发、电阻热蒸发源组件(可选配)、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。

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