




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
靶基距、气压的影响
磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数,薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势,溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是,这种均匀是在小范围内的,气相沉积设备厂家,因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的,而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的,气相沉积设备多少钱,显然,这些因素只能在小面积范围内起作用。
使用镀膜设备时的常见问题:
镀膜设备是属于在真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发,使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上,从而让塑料薄膜的表面能够具有金属光泽性的设备。它的镀膜技术在目前市场里,气相沉积设备价格,是作为一种产生特定膜层的技术,现在的现实生产生活中,都是有着非常广泛的应用。如果在经过这样技术之后,产品还是出现了掉膜的情况,产品在经过镀膜后出现掉膜状态,那么很有可能是产品表面洁净度不够,离子源清洗气放大时间过长了。当然也有可能是产品在准备进行镀膜之前,清洗时被添加了清洗剂来清洗,可以用纯净水擦拭一下哦!
东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司,是将派瑞林(pa-rylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。
如何减少真空离子镀膜机的粉尘
1. 所用原料应符合---的纯度要求;
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