pvd真空镀膜原理是什么?
离子镀膜(pvd镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,横沥纳米镀膜,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,手机纳米镀膜多少钱,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
采用pvd镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
真空蒸发镀膜设备用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品外表蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩薄仿金膜等,防水纳米镀膜,然后取得亮光、漂亮、;---的塑料,纳米镀膜多少钱,陶瓷外表金属化制品。广泛使用于轿车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装修、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等范畴。
一、真空电镀加工的镀层厚度均匀致密。 无论工件如何复杂,均可在工件上得到均一镀层,其镀层精度可达±1微米。
二、各种基体材料均可处理,包括金属、半导体及非金属。
真空镀膜加工的基本技能要求 1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应契合gb/t6070的规则。 2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应设备真空丈量规管,分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成搅扰时,应在丈量口处设备电场屏蔽设备。
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