cvd化学气相沉积厂-cvd化学气相沉积-拉奇纳米

真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。真空镀膜是在真空---钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，cvd化学气相沉积厂，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。

真空镀膜加工均匀性的概念：

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，真空镀膜加工均匀性。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，薄膜，如果镀膜过程不科学，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜加工的技术含量所在。

3.晶格有序度的均匀性

真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，广泛应用于汽车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟等领域。

真空镀膜有三种方式，cvd化学气相沉积技术---，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜。在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀。