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影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

靶基距、气压的影响

磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。

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如何测量真空镀膜机的厚度?

我们通常把底物一侧表面分子集合的平均表面称为底物表面;膜边表面的平均表面称为膜的形状表面。将测量到的薄膜原子重新排列，使固体材料的密度和体积完全一致，lh300派瑞林镀膜设备哪有订，均匀地分布在基体表面。那么平均表面称为薄膜当量表面。根据被测薄膜的物理性质，将其等效为与被测薄膜长、宽相同的大型固体材料薄膜，则其平均表面称为薄膜物理等效面。