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影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

靶基距、气压的影响

磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，南海uh850派瑞林镀膜设备，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。

东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司，uh850派瑞林镀膜设备制造商，是将派瑞林（pa-rylene）高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性：防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。

真空镀膜机过程的清洁度是影响真空镀膜附着力的主要指标之一。因此，为了避免真空污染，uh850派瑞林镀膜设备哪里好，设备零件的表面清洗处理是非常重要的。真空镀膜机设备表面处理有四种基本方法

溶剂脱脂

附着在真空设备零件上的油可分为动植物油和矿物油。动植物油可用碱溶液化学法除去，矿物油可用除去。

然而，在实际的清洗设备中，uh850派瑞林镀膜设备公司，通常使用两种溶剂。

在我们的日常生活中，很多生活用品都被镀膜机涂上了一层膜，使产品不仅变得美观，而且实用。但是很多人都会有疑问，既然是一层一层的胶片，胶片一定要有厚度的大小，那么胶片的厚度是多少，又该如何测量呢?

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