




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
靶基距、气压的影响
磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数,h850气相沉积设备,薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势,溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是,这种均匀是在小范围内的,因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的,而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的,气相沉积设备,显然,这些因素只能在小面积范围内起作用。
东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司,是将派瑞林(pa-rylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。
真空镀膜机低真空抽气的基本要求是高工作压力和大风量,气相沉积设备厂,但对抽速的要求不如高真空机组。因此,镀膜机的低真空抽气机通常用作粗真空室。低真空泵通常采用罗茨泵、分子筛吸附泵、油蒸汽喷射泵、蒸汽喷射泵、水环泵、往复泵、油封泵等,这些常见的低真空泵除了罗茨泵和蒸汽喷射泵不能直接排放到---中,其他泵可以直接排放到---中。
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真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上,应清洁工作室一次。方法是:用(naoh)饱和溶液反复擦洗真空室内壁,( 注意人体皮肤不可以直接接触溶液,l5000气相沉积设备,以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(al)与naoh发生反应,反应后膜层脱落,并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾清洗精抽阀内的污垢。
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