真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（pvd）技术和化学气相沉积（cvd）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，聚对二---加工，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
首饰振动电镀以溅射的方法进行真空镀膜，聚对二---厂，由于其镀膜方式的不同，同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的，虽然肉眼无法看出来，但确实拥有一定的优势。 膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系，电流越高，溅射效率越大，相同时间内，所镀膜层的厚度相对就大了，因为只要把电流数值控制好，需要镀多厚，清溪聚对二---，或者多薄的膜层都可以了。
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