气相沉积设备工厂-封开气相沉积设备-拉奇纳米

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    2023-10-28

唐锦仪
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真空镀膜机具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点,配备 e 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。pid自动控温,具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。e 型电子束蒸发、电阻热蒸发源组件(可选配)、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。







真空镀膜机镀前后如何处理?

镀后处理:

1、钝化处理

所谓钝化处理是指在一定的溶液中进行化学处理,封开气相沉积设备,在镀层上形成一层坚实致密的、稳定性高的薄膜的表面处理方法.钝化使镀层耐蚀性---提高并能增加表面光泽和抗污染能力。这种方法用途很广,镀zn、cu及ag等后,都可进行钝化处理。

2、除氢处理

有些金属如锌,在电沉积过程中,除自身沉积出来外,还会析出一部分氢,这部分氢渗入镀层中,使镀件产生脆性,甚至断裂,气相沉积设备厂家哪里近,称为氢脆。为了消除氢脆,往往在电镀后,使镀件在一定的温度下热处理数小时,称为除氢处理。





真空镀膜设备主要是指一类必须在比较高真空值中进行的镀晶,实际包括很多类型,包含真空泵离子挥发,射频溅射,mbe分子束外延性,pld激光器磁控溅射堆积等好几种。关键思路是分为挥发和磁控溅射二种。

多弧离子pvd镀膜设备内腔构造:立柱式前开门,气相沉积设备厂商,立式前开门,内置真空泵得到系统软件材料用材:内腔选用sus304不锈钢材料离子弧源:根据机器设备大小不一配备好几套弧电气系统偏压开关电源:配备功率大的单极单脉冲偏压开关电源多弧靶材:标准配置好几套钛靶或不锈钢板靶材旋转系统软件:交流电机调速,公转动融合,可采取上传动系统或下驱动方式超滤装置(装饰设计镀膜设备):扩散泵(可选择分子泵) 罗茨真空泵 真空泵 保持泵 制氢系统软件(可选择)


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