




请问什么是pvd?
pvd是英文physical vapor deition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
请问pvd镀膜的具体原理是什么?
真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,电子parylene涂层,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相沉积等。
20世纪70年代,在物体外表上镀膜的办法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电,使电解液电解,被电解的离子镀到作为另一个电极的基体外表上,硅胶parylene涂层,因而这种镀膜的条件,基体必须是电的良导体,并且薄膜厚度也难以控制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能,汽车parylene涂层,一般称为干式镀膜技能。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝结并堆积的办法,称为真空镀膜。
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