h850派瑞林镀膜设备-东莞拉奇纳米镀膜

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    2023-12-25

唐锦仪
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真空蒸发镀膜设备功能特点,真空室内蒸发物质的蒸气与固体或液体平衡过程中所表现出来的压力。

1.高熔点:因为镀料的蒸发温度(饱和蒸气压为1pa时的温度)多数为1000-2000℃,所以蒸发源材料的熔点高于此温度

2.饱和蒸气压低:主要是为了防止和减少高温下蒸发源材料会随着镀料蒸发而成为杂质进入蒸镀膜层中。

3.化学性能稳定,高温下不与蒸发材料反应:但是在电阻蒸发中比较容易出现的问题是,高温下某些蒸发源材料与镀料之间会发生反应和扩散






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