




真空镀膜加工中频磁控溅射
目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀,显示屏派瑞林涂层,且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜,非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。
无论平衡还是不平衡,如果磁铁是静止的,电子派瑞林涂层,其磁性决定了现有材料的利用率通常小于3。为了提高靶材的利用率,可以采用旋转磁场。然而,橡胶派瑞林涂层,旋转磁场需要一个旋转机构,并且应降低等待速率。旋转磁场主要用于大型或有价值的目标。如半导体薄膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,端州派瑞林涂层,通常使用磁场静态目标源。
东莞拉奇纳米科技有限公司,是将派瑞林(parylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:无细孔、防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。
真空镀膜和光学镀膜区别
1、真空镀膜:电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;
2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。
早的是光控测试,现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。
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