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真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，真空微米镀膜工艺，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相沉积等。

首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤。

真空镀膜加工的基本技能要求

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细，均按gb/t11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事项

1）环境温度：10-30oc2）相对湿度：不大于75%   3）冷却水进水温度：不高于25oc   4）冷却水质：城市自来水或相当的水。   5）供电电源：380v三相50hz或220v单相50hz(由所用电器需求而定)；电压波动范围：342-399v或198-231v；频率波动范围：49-51hz。6）设备所需的压缩空气，长安真空微米镀膜，液氮，冷水、热水等的压力、温度，真空微米镀膜多少钱，消耗量等，均应在产品运用说明书中写明。7）设备周围环境整齐，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。