




真空镀膜的方法材料:
(2)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
光学镀膜方法材料
(1)---镁:无色四方晶系粉末,聚对二---厂商,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,不出崩点。
(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高si02镀膜,蒸发状态好,聚对二---工厂在哪,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
什么是真空镀膜加工
简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
众所周知,在某些材料的表面上,只要镀上一层薄膜,就能使材料具有许多新的、---的物理和化学性能。20世纪70年代,在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。
电子束蒸发镀是将蒸发材料放入水冷铜坩锅中,直接利用电子束加热,沙溪聚对二---,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面形成膜,聚对二---厂在哪,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,---适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。
优点:
1、电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热源的能量密度。
2、由于被蒸发材料是置于水冷坩锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的纯度---重要。
3、热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热效率较高热传导和热辐射的损失少。
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