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真空镀膜加工中频磁控溅射

目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，矽钢片绝缘处理选，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。

无论平衡还是不平衡，矽钢片绝缘处理厂家，如果磁铁是静止的，其磁性决定了现有材料的利用率通常小于3。为了提高靶材的利用率，可以采用旋转磁场。然而，旋转磁场需要一个旋转机构，并且应降低等待速率。旋转磁场主要用于大型或有价值的目标。如半导体薄膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，通常使用磁场静态目标源。

东莞拉奇纳米科技有限公司，是将派瑞林(parylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:无细孔、防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。

膜层的特点就是高硬度，高耐磨性，能够耐腐蚀，自然而然，对于五金件的性能提升也是显而易见的。五金件真空镀膜后，在常规环境下，膜层与基体的强力结合，使产品具有、不易褪色、耐磨损耐刮花的效果。