




溅射镀膜
溅射镀膜,是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时,将工作室---真空,充入氢气作为工作气体,并保持其压力为0.13-1.33pa,以沉积物质作为靶(阴极)并加上数百至数千伏的负压,以工件为阳极,两侧灯丝带负压(-30-100v)。加热灯丝至1700℃左右时,灯丝发射出的电子使氢气发生辉光放电,产生出氢离子h+,h+被加速轰击靶材,使靶材迸发出原子或分子溅射到工件表面上,形成沉积层。
溅射法可用于沉积各种导电材料,包括高熔点金属及化合物。如果用tic作靶材,便可以在工件上直接沉积tic涂层。当然,也可以用金属ti作靶,再导入反应气体,进行反应性溅射,溅射涂层均匀但沉积速度慢,化学气相沉积设备厂家,不适于沉积105mm以上厚度的涂层。溅射可使基体温度升高到500-600℃,气相沉积设备厂商,因此,只适用于在此温度下具有二次硬化的钢制模具加工。
真空镀膜机光学加工工艺发展情况及未来趋势,的光学镀膜零件冷加工在中华---时期是非常---的,到二十世纪五十年代从苏联和东德引进光学加工技术,几乎是过来的。 光学冷加工采用的是散粒磨料粗磨、精磨,古典式抛光。
加工效率低下,同时对操作者的技术要求较高,每个操作者都要经过多年的技术岗位培训才能正式上岗工作。技术较好的工人可以从加工毛坯到抛光,独自完成全线的工作。这时的光学冷加工主要依靠技术工人的技能和经验加工零件,而工艺设计的作用在这个时期不是非常重要的。
气相沉积设备
工艺特点
(1)广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。
(2)在产量方面,从单件到大批量皆可。
(3)有优势,沉积温度低,薄膜成份易控,膜厚与淀积时间成正比,气相沉积设备,均匀性,气相沉积设备价格,重复性好,台阶覆盖性优良。
(4)工具涂层的生产效率不如pvd,具体取决于特定技术要求和辅助工艺。
化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的种技术,---是对工具涂层更是这样。
镀膜机工艺在太阳能运用方面的运用当需求有用地运用太阳热能时,就要思考选用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所导致的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。
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