




气相沉积主要分为两大类:
化学气相沉积(,简称cvd);
物理气相沉积(,简称pvd)。
,电子纳米镀膜设备,人们利用易挥发的液体tici稍加热获得tici气体和nh气体一起导入高温反应室,让这些反应气体分解,再在高温固体表面上进行遵循热力学原理的化学反应,生成tin和hci,hci被抽走,tin沉积在固体表面上成硬质固相薄膜。人们把这种通过含有构成薄膜元素的挥发性化合物与气态物质,在固体表面上进行化学反应,且生成非挥发性固态沉积物的过程,称为化学气相沉积(,cvd)。
薄膜(比如铱和铂薄膜)之所以引起人们的兴趣是因为它们具有---的性能 、高的电导率 、很强的催化活性以及---的稳定性等 。这些性能使得薄膜在电极材料 、微电子 、固态燃料电池和气敏元件等许多领域存在广泛的应用。
在cvd处理过程中,金属纳米镀膜设备,尺寸变形小的材料是硬质合金及含cr高的不锈钢系合金;冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢(cr12mov)、硬质合金等,其中快冷淬透钢,由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形,所以不宜进行cvd处理;而高速钢是热处理膨胀较大的钢种,使用时必须充分估计其膨胀变形量。
有时将此方法用作预涂层,新北纳米镀膜设备,目的是提高基材的耐久性,减少摩擦并---热性能-这意味着人们可以在同一涂层中结合pvd和cvd层等沉积方法。
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由于磁控溅射技术的发展将集中在未来对这些特定反应器的改进上,因此这项工作已成为主要重点。
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