镀膜技能在刀具、模具等金属切削加工东西方面的运用。在生活中咱们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些即是通过镀膜技能加工后的涂层东西。
（1）金黄色的是在刀具上涂镀了tin、zrn涂层。tin是一代运用广泛的硬质层资料。
（2）黑色的是在切削东西上涂了tic、crn涂层。
（3）钴铜色的是在刀具上镀涂了tialn涂层。
2080年代早期随着等离子体辅助pvd工艺的显露，cvd在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有---的渗入特性，其在cvi、ale等领域的工艺中有着---的应用前景，主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。
金属有机化合物cvd（mocvd）工艺被广泛用于电子工业，例如生产ai和gaas膜，当用于生长单晶材料膜时，这种工艺称为金属有机气相外延（mdvpe）。
原子层外延（ale）cvd是一种cvd衍生方法，可以控制膜的成长，现在该工艺已用于生产电荧光膜。
物理气相沉积（pvd）是一项众所周知的技术，广泛应用于薄膜沉积，涉及许多方面，包括摩擦学性能---，光学增强，台湾纳米镀膜设备，视觉/美学提升以及许多其他领域，涉及范围广泛。已经建立的应用程序。加工工具可能是该沉积技术的常见应用之一，有时与化学气相沉积（cvd）结合使用，以延长其使用寿命，减少摩擦并---热性能。然而，cvd工艺在较高的温度下进行，从而在涂层和基材中产生较高的应力，基本上仅在需要使用该工艺沉积所需的涂层时才使用。为了改进此技术，已进行了多项研究，以优化pvd技术，玻璃纳米镀膜设备，方法是增加等离子体电离，减少暗区（反应器中没有沉积物的区域），---靶材的使用，提高原子轰击效率，甚至提高沉积速率并优化气体选择。
微波等离子体化学气相沉积（mw-pcvd）
微波等离子体的特点是能量大，活性强。激发的亚稳态原子多，化学反应轻易进行，是一种很有发展前途、用途广泛的新工艺，微波频率为2.45ghz，
微波放电与直流辉光放电相比具有设备结构简单，塑料纳米镀膜设备，轻易起辉，耦合，工作稳定，无气体污染及电极腐蚀，工作频带宽等优点，装置主要由微波发生器、环形器、定向耦合器、表面波导放电部分及沉积室组成。
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