饰品纳米镀膜设备-拉奇纳米-纳米镀膜设备

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    2020-10-8

唐锦仪
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离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术,将各种气体放电方式引入到气相沉积领域,整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。  

全sus304不锈钢机身,隐藏式双层冷却水套设计  

合理配备多套全新研制的离子弧源,纳米镀膜设备,有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性  

采用多路进气系统,---控制气体流量,满足您多种化合物膜层需求。  

装载大功率脉冲偏压电源,---提高电粒子能量,从而获得的膜层结合力和光洁度  

采用---工艺制造,精益---,通过欧盟ce和iso管理体系;





工艺特点

(1)广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。

(2)在产量方面,从单件到大批量皆可。

(3)有优势,饰品纳米镀膜设备,沉积温度低,薄膜成份易控,金属配件纳米镀膜设备,膜厚与淀积时间成正比,均匀性,重复性好,台阶覆盖性优良。

(4)工具涂层的生产效率不如pvd,具体取决于特定技术要求和辅助工艺。

4、适用材料

化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的一种技术,---是对工具涂层更是这样。

2080年代早期随着等离子体辅助pvd工艺的显露,cvd在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有---的渗入特性,其在cvi、ale等领域的工艺中有着---的应用前景,塑料纳米镀膜设备,主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。





金属钯及其合金具有很强的氢气吸附能力和特殊的选择渗透能力, 是理想的氢气储存和净化材料 。目前, 通常使用整体钯合金或镀钯等方法制造氢净化设备。近年来 ,有研究者尝试采用化学气相沉积法制备钯的薄膜或薄层材料 , 他们选用分解温度很低的金属有机化合物作为沉积钯的源物质, 他们是:---[β-酮] pd(ⅱ)、pd(η3 -c 3 h 5 )(η 5-c 5 h 5 )和 pd(η3-c 3 h 5 )(cf 3 cochcocf 3 )等。采用化学气相沉积法可以制备高纯度的钯薄膜 。





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