纳米镀膜设备-纳米镀膜设备-拉奇纳米(商家)

纳米镀膜设备

pcvd工艺具有广泛的用途。

（1）超硬膜的应用（tin、tic、ticn、（tial）n、c-bn等）pcvd法宜于在外形复杂、面积大的工件上获得超硬膜，沉积速率可达4～10μm/h，硬度大于2000hv，绕镀性好，工件不需旋转就可得到均匀的镀层。大量应用于切削刀具、磨具和耐磨零件。

（2）半导体元件上尽缘膜的形成过往半导体元件上的尽缘膜大多用sio2，现在用sin4+h2用pcvd法来形成si3n4，si3n4的尽缘性、性、耐酸性、耐碱性，比sio2强，从电性能及其掺杂效率来讲都是的，---是当前的高速元件gaas尽缘膜的形成，高温处理是不可能的，只能在低温下用等离子法进行沉积。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，纳米镀膜设备，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 

真空镀膜机工作的环境要求：    

真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。真空对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。