




cvd法具有如下特点:可在---或低于---压下进行沉积金属、合金、陶瓷和化合物涂层,汽车配件真空镀膜设备,能在形状复杂的基体上或颗粒材料上沉积涂层。涂层的化学成分和结构较易准确控制,也可制备具有成分梯度的涂层。
涂层与基体的结合力高,设备简单操作方便,但它的处理温度一般为900-1200℃,工件被加热到如此高的温度会产生以下问题:
(1)工件易变形,心部组织恶化,橡胶真空镀膜设备,性能下降。
(2)有脱碳现象,晶粒长大,残留奥氏体增多。
(3)形成ε相和复合碳化物。
(4)处理后的母材必须进行淬火和回火。
(5)不适用于低熔点的金属材料。
物理气相沉积涂层设备,该设备包括耐高压真空炉腔、转炉架、真空系统、阴极电弧系统、控制系统、高温轴承等,同时采用开发的---的真空磁控阴极电弧技术,将具有硬度、---结合力、均匀一致的纳微米超硬薄膜运用于刀具、各类模具以及机械零部件表面,寿命提---到3-10倍以上。
研究制备的各类pvd涂层包括高硅涂层、高铝涂层(氮铝化钛)、cr-al涂层(alcrn)、ticn(氮碳化钛)涂层、tin(氮化钛)涂层、类金刚石(dlc)涂层等。涂层具有光滑、致密、硬度高、耐高温、抗磨损、防氧化等特点,能够进行批量和工业化生产应用。
工艺特点
(1)广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。
(2)在产量方面,真空镀膜设备,从单件到大批量皆可。
(3)有优势,沉积温度低,薄膜成份易控,膜厚与淀积时间成正比,均匀性,重复性好,台阶覆盖性优良。
(4)工具涂层的生产效率不如pvd,具体取决于特定技术要求和辅助工艺。
4、适用材料
化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的一种技术,---是对工具涂层更是这样。
2080年代早期随着等离子体辅助pvd工艺的显露,cvd在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有---的渗入特性,其在cvi、ale等领域的工艺中有着---的应用前景,主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。
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