




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
靶基距、气压的影响
磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数,薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势,溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是,这种均匀是在小范围内的,因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的,而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的,显然,纳米镀膜设备,这些因素只能在小面积范围内起作用。
真空镀膜机在各个行业中在适用过程中对环境也是有要求的,它对环境的要求主要遵循以下几点:
1.对加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要的,需要镀前清洁处理,金属纳米镀膜设备,可以达到工件去油、去污和脱水的目的;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体;
2.经过清洗处理的清洁表面,不能存放在---环境中,须用封闭容器或保洁柜贮存,可以减小灰尘的沾污。可以用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底,因此贮存在真空干燥箱中;
3.清除镀膜室内的灰尘,纳米镀膜设备,需设置清洁度高的工作间,洁净室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。除镀前需要对基片、真空室内各部件认真清洗外,还需进行烘烤除气。
东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司,是将派瑞林(pa-rylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。
镀膜设备是一种重要的加工设备,那么镀膜设备的结构都存在哪些区别呢?
1.通风系统对于连续通过式电泳槽,可采用顶部通风装置,由抽风罩、离心风机、排风管等组成。对于垂直升降式电泳槽,一般只能采用槽边抽风方式。
2.循环搅拌系统循环搅拌系统分内、外两部分循环。作用是---整个镀膜槽内漆液成分和温度的均匀,防止漆液颜料沉淀。
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