




真空镀膜——也称为“薄膜技术”;或物理气相沉积 (pvd) — 在真空技术的各种应用中占有令人印象深刻的份额。在这篇博文中,我们分享了历史发展的概述、支持薄膜生成的各种基本原理以及涂层设备的总体布局。
薄膜是表面上的材料层,厚度远低于纳米,高可达微米。用薄膜涂覆设备有多种原因。举几个例子: 防止腐蚀的保护膜、珠宝或浴室配件上的装饰层、工具磨损保护、多层以---眼睛镜片的光学性能、半导体或太阳能电池生产、触控面板生产、汽车行业的抬头显示器、反光灯的镜子、保鲜包装箔、建筑玻璃保温、指肠镜。
晶格有序度的均匀性:
这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的---问题,具体见下。
主要分类有两个大种类:
蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,派瑞林纳米镀膜选,包括真空离子蒸发,派瑞林纳米镀膜工厂在哪,磁控溅射,mbe分子束外延,溶胶凝胶法等等
一、对于蒸发镀膜:
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,派瑞林纳米镀膜,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4、真空度
5、镀膜时间,厚度大小。
组分均匀性:
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性:
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
一代光学镀膜原理
抗磨损膜始于20世纪70年代初,当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高,而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面,形成一层非常硬的抗磨损膜,但由于其热胀系数与片基材料的不匹配,很容易脱膜和膜层脆裂,因此抗磨损效果不理想。
二代光学镀膜原理
20世纪80年代以后,研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关,膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性,即有些材料的硬度较高,但变形较小,而有些材料硬度较低,但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。

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