




真空镀膜加工中频磁控溅射
目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀,且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜,非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。
无论平衡还是不平衡,如果磁铁是静止的,其磁性决定了现有材料的利用率通常小于3。为了提高靶材的利用率,可以采用旋转磁场。然而,汽车配件parylene镀膜,旋转磁场需要一个旋转机构,并且应降低等待速率。旋转磁场主要用于大型或有价值的目标。如半导体薄膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,通常使用磁场静态目标源。
手机壳真空镀膜加工技术,就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术,镀层的晶料度在10纳米左右,属于纳米材料的范畴。通过---机壳内壁真空镀电磁防护膜层,可以较大地防止因电磁波辐射而---机使用者造成的危害。
镀膜技术的研究与应用,不仅推动了手机制造业的发展,也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽,以对其使用性能进行优化,东凤parylene镀膜,保护人类健康,保护环境。
东莞拉奇纳米科技有限公司,是将派瑞林(parylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:无细孔、防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。真空镀中对底涂层的要求:
对镀件与镀膜层有---的接触性能与较高的结合力,热膨胀系数相差小,金属parylene镀膜,不起反应,流平性能好。
具有---的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。
成膜性能好,涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能---。

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